Wichtige Anwendungen
Filtration von ultrareinem Wasser (UPW)
Unverzichtbar in Halbleiterfertigung, wo selbst winzige Partikel Wafer beschädigen können.
Entfernt Partikel aus ultrareinem Wasser, das bei Reinigungs-, Spül- und Ätzprozessen verwendet wird.
Chemische Prozessfiltration
Verwendet in Ätzmittel, Beschichtungsbäder und Fotolacklösungen um Verunreinigungen herauszufiltern.
Schützt empfindliche elektronische Komponenten und sorgt für gleichmäßige chemische Reaktionen.
Gasfiltration
Filtert Prozessgase in Systeme zur kontrollierten Atmosphäre oder chemischen Gasphasenabscheidung (CVD).
Sorgt für einen gleichmäßigen Gasfluss und verhindert die Kontamination empfindlicher Elektronik.
Membran- und Filterunterstützung
Wirkt als Strukturelle Stützschicht für Membranfilter in Flüssigkeiten und Gasen.
Verhindert die Verformung der Membranen unter hohem Druck und sorgt gleichzeitig für eine präzise Filtration.
Reinraum- und HLK-Anwendungen
Bietet Vorfiltration oder Zwischenfiltration in Reinraum-Luftbehandlungssysteme.
Hilft, Umgebungen der ISO-Klassen 1–5 aufrechtzuerhalten, indem die Partikelwerte kontrolliert werden.
Vorteile in Elektronikanwendungen
Ultrapräzise Porengröße → Filtration von Partikeln im Submikronbereich.
Hohe mechanische Festigkeit → hält hohen Drücken in chemischen und Gasfiltersystemen stand.
Chemische und thermische Beständigkeit → kompatibel mit Säuren, Lösungsmitteln und Hochtemperaturprozessen.
Langlebig und wiederverwendbar → geeignet für wiederholte Reinigungs- und Sterilisationszyklen.
Stabile Struktur → verhindert Verstopfungen und sorgt für konstante Durchflussraten.
Im Elektronikindustrie, gesintertes Metallgewebe wird häufig verwendet für Filtration von Reinstwasser, Filtration chemischer Lösungen, Gasreinigung und Reinraumanwendungen. Seine Kombination aus Präzision, Festigkeit und chemische Beständigkeit gewährleistet die höchste Qualität und Zuverlässigkeit in der Halbleiterherstellung, Mikroelektronikproduktion und anderen sensiblen Elektronikprozessen.
