Aplikasi Utama
Penapisan Air Ultra-Tulen (UPW)
Penting dalam fabrikasi semikonduktor, di mana zarah-zarah kecil pun boleh merosakkan wafer.
Mengeluarkan zarah daripada air ultra-tulen yang digunakan dalam proses pembersihan, pembilasan dan goresan.
Penapisan Proses Kimia
Digunakan dalam etsa, mandian penyaduran, dan penyelesaian fotoresist untuk menapis kekotoran.
Melindungi komponen elektronik yang halus dan memastikan tindak balas kimia yang konsisten.
Penapisan Gas
Penapis memproses gas masuk atmosfera terkawal atau sistem pemendapan wap kimia (CVD)..
Memastikan aliran gas seragam dan mengelakkan pencemaran elektronik sensitif.
Sokongan Membran dan Penapis
Bertindak sebagai a lapisan sokongan struktur untuk penapis membran dalam cecair dan gas.
Mencegah ubah bentuk membran di bawah tekanan tinggi sambil mengekalkan penapisan yang tepat.
Aplikasi Bilik Bersih dan HVAC
Menyediakan pra-penapisan atau penapisan perantaraan dalam sistem pengendalian udara bilik bersih.
Membantu mengekalkan persekitaran kelas ISO 1–5 dengan mengawal tahap zarah.
Kelebihan dalam Aplikasi Elektronik
Saiz liang sangat tepat → penapisan zarah sub-mikron.
Kekuatan mekanikal yang tinggi → menahan tekanan tinggi dalam sistem penapisan kimia dan gas.
Rintangan kimia dan haba → serasi dengan asid, pelarut, dan proses suhu tinggi.
Tahan lama dan boleh digunakan semula → sesuai untuk kitaran pembersihan dan pensterilan berulang.
Struktur stabil → mengelakkan penyumbatan dan memastikan kadar aliran yang konsisten.
Dalam industri elektronik, mesh logam tersinter digunakan secara meluas untuk penapisan air ultra-tulen, penapisan larutan kimia, penulenan gas, dan aplikasi bilik bersih. Gabungan daripada ketepatan, kekuatan, dan rintangan kimia memastikan kualiti dan kebolehpercayaan tertinggi dalam pembuatan semikonduktor, pengeluaran mikroelektronik, dan proses elektronik sensitif yang lain.
